- Sasaran Seramik

produk

Sasaran Seramik

Penerangan Ringkas:

Sasaran seramik

Sasaran seramik adalah sasaran yang agak rapuh.Biasanya, sasaran seramik digunakan bersama dengan plat belakang.Selain menyokong sasaran seramik semasa proses sputtering, plat belakang juga boleh memainkan peranan dalam pemindahan haba semasa proses sputtering.Terdapat banyak jenis sasaran seramik dan pelbagai aplikasi, terutamanya digunakan dalam bidang mikroelektronik, paparan, penyimpanan dan bidang lain.Sebagai bahan asas untuk pembangunan industri filem nipis bukan logam, sasaran seramik telah mencapai pembangunan yang tidak pernah berlaku sebelum ini.


Butiran Produk

Soalan Lazim

Tag Produk

Jenis sasaran seramik dan aplikasi masing-masing

Mengikut aplikasi, ia boleh dibahagikan kepada sasaran seramik berkaitan semikonduktor, sasaran seramik paparan, sasaran seramik rakaman magnetik, sasaran seramik rakaman optik, sasaran seramik superkonduktor, sasaran seramik rintangan magnet gergasi, dsb.

Sasaran seramik berkaitan semikonduktor (HfO, SiO, Si3N4, MoSi, TaSi, WSi, TiSi, PLZT, ITO, digunakan terutamanya dalam filem dielektrik pintu. Filem resapan, filem penghalang resapan, filem penebat kapasitor, filem konduktif telus;

Paparkan sasaran seramik ZnSMn, ZnS-Tb, ZnS-Sm, CaS-Eu, SrS-Ce, Si3N4, MgO

Sasaran seramik rakaman magnetik Si3N4, terutamanya digunakan dalam kepala magnet, perlindungan cakera magneto-optik (MO);

Rak seramik rakaman optik Si3N4, terutamanya digunakan dalam filem pelindung cakera optik;

Sasaran seramik superkonduktor YbaCuO, BiSrCaCuO, terutamanya digunakan dalam filem nipis superkonduktor;

Sasaran seramik rintangan magnet gergasi, terutamanya digunakan dalam tingkap sel solar filem nipis;

Aplikasi lain menyasarkan InO, LiNbO, BaTiO, PZT.ZnO, terutamanya digunakan dalam sel suria, filem nipis piezoelektrik 

Mengikut komposisi kimia, ia boleh dibahagikan kepada sasaran seramik oksida, sasaran seramik silisid, sasaran seramik nitrida, sasaran seramik fluorida dan sasaran seramik sulfida, dan lain-lain. Antaranya, sasaran seramik ITO paparan rata telah dihasilkan dan digunakan secara meluas di China. ..Sasaran seramik untuk filem penebat dielektrik tinggi dan sasaran seramik rintangan magnet gergasi mempunyai prospek aplikasi yang luas.

Contoh

Sasaran sputtering seramik oksida ialah sasaran yang paling biasa antara sasaran sputtering seramik lanjutan.Seramik oksida boleh dibuat dengan mensinter pada suhu tinggi, dengan satu atau lebih oksida sebagai juzuk utama dan oksida kecil lain sebagai bahan tambahan.Mereka dibahagikan kepada seramik oksida ringkas dan seramik oksida kompleks.Sasaran sputtering biasa jenis ini termasuk aluminium oksida (Al2O3), magnesium oksida (MgO), berilium oksida (BeO), zirkonium oksida (ZrO2), dan lain-lain.Kebanyakan seramik oksida mempunyai takat lebur yang tinggi, penebat yang sangat baik, kekuatan haba, sifat antioksidan dan kakisan.Oleh itu, mereka boleh terdedah kepada suhu tinggi dan persekitaran pengoksidaan untuk masa yang lama, dan layak digunakan secara meluas dalam bidang kejuruteraan.


  • Sebelumnya:
  • Seterusnya:

  • Tulis mesej anda di sini dan hantar kepada kami

    produkkategori